仁和热点 / 余开区 · 2023年5月15日 0

这里建设→年产1000台(套)SiGe薄膜沉积设备生产项目

该项目位于余政工出【2023】1号地块上,该地块2023年4月27日以3450万元成交,面积33333平方米。

  近一个月,钱开区有以上5宗地块挂牌出让,多宗地块已经公示了建设什么项目,相关内容请看:

1、仁和这里建设→年产20000立方米智能灭菌系统项目
2、仁和这里建设→年产6000万片(COF)芯片项目

项目地块位置是这样的,它东至临港路,南至洛阳路,西至相邻地界、北至獐湾路,实景图如下:

  按公示的信息,这个项目的总建筑面积为99691.73平方米,其中地上建筑面积为83151.34平方米,地下建筑面积为16540.39平方米,容积率为2.49,建筑密度为43.18%,绿地率为20%。

▼项目方案效果图▼


小知识:

  薄膜沉积设备,作为半导体制造核心工艺制程设备之一,具备广阔的市场空间;同时由于沉积材料多样、技术路线多样,相较于其他核心工艺而言,薄膜沉积设备给更多的设备商提供了发展的空间。当前国内多家半导体设备商已经取得突破、或者正在积极布局中,未来有望持续受益下游扩产以及国产化进程。